一種WC-Ni-DLC納米複合塗層（céng）屬於硬質合金複合塗層技術領（lǐng）域,WC-Ni-DLC納（nà）米複合塗層（céng）由陰極電弧離子（zǐ）鍍（dù）結合陽極層離子源複合製備而成。製（zhì）備的WC-Ni-DLC納米複（fù）合塗層（céng）厚度可達30~60微米，其厚度顯著優於常規氮化物和碳化物硬質塗層,在室溫-500C範圍內的摩擦係數為0.11~0.25,且在此溫度範圍內能夠始（shǐ）終保持較低的摩擦係數和優良的（de）抗磨損性能，可廣泛應用於刀具等機械加工行（háng）業，對推動綠色加工行業的發展和節（jiē）能降耗（hào），具有重（chóng）要的實際意義。

WC-Ni-DLC納米複合（hé）塗層的製備方法,其特征在於,所述的WC-Ni-DLC納米複合塗層的製備方法（fǎ）,包（bāo）括以下步驟:

1:準備

以WNi合金為陰極電弧（hú）離子鍍靶材，陰極電弧離子鍍靶材的（de）靶麵和陽極層離子源靶材的靶麵法向線重合，陰極電弧（hú）離子鍍靶材的靶麵（miàn）和陽極層離（lí）子源靶材的靶麵之（zhī）間的間距（jù）為450~500mm;將陰極電弧離（lí）子鍍靶材和陽極（jí）層（céng）離子源靶材設置在真空室中（zhōng）,且（qiě）靶麵法向線和真空室中心線（xiàn）在同一平（píng）麵內切垂直:將鍍膜基材樣品（pǐn）設置在真（zhēn）空室中的試樣架中;當（dāng）真空（kōng）室壓強（qiáng）≤6X10Pa時,開始加熱,當真空室壓強小（xiǎo）於2X10Pa,真空室溫度保持在460~470C，開始鍍膜:

2:鍍膜

向（xiàng）真空室內通（tōng）入Ar,使得真空室壓強為0.1~0.2Pa,鍍膜（mó）基材樣品公轉,開啟陽極層離子源,設置功率為（wéi）3.5~4KW,電壓為1200~1500V,時間為1020min;調整陽極層離子（zǐ）源的功率為（wéi）1.5~2.5KW電為800~1000V,持續（xù）通入Ar開啟偏（piān）壓電源負偏壓值範圍為400~600V，開啟陰極電弧離子鍍電（diàn）源，調節陰極電弧離子鍍（dù）靶材的電流至70~80A,沉（chén）積得到WNi合金層，所沉積的WNi合金層厚度1~2微（wēi）米,時間5~10min;S3:通入乙炔反應。

向真空室內通入乙炔,至真空室內總壓強為0.5~0.6Pa,沉積（jī）150~300min,得（dé）到沉積在鍍膜基材樣品上（shàng）的WC-Ni-DLC納米複合塗層。7.根據權利要求6所述的WC-Ni-DLC納米複（fù）合塗層的製備方法，其特征在於，所述的S1中，陰極電弧（hú）離子鍍的靶材的靶麵（miàn）直徑為100mm;陽極層離（lí）子源的靶麵直徑為150mm。8.根據（jù）權利要求6所述的WC-Ni-DLC納米複合塗層的製備方法，其特征在於，所述的S2中鍍膜基材樣品公轉的速率為（wéi）10~15r/min,自轉速率為30~40r/min。9.權利要求1~4任意一項所述（shù）的WC-Ni-DLC納米複合塗層的應用,其特征在於,將WCNi-DLC納米複合塗（tú）層鍍在硬質（zhì）合金刀具（jù）上或鍍在碳素工具鋼刀（dāo）具（jù）上。10.根據（jù）權利要求9所述的WC-Ni-DLC納米複合塗層的應用,其特征在於,刀具為車刀銑刀（dāo）、鑽頭中的一種。