表麵TAC類金剛石塗層處理
來源:技術支持 | 發布日期:2025-06-01

一、基本概念

TAC類金剛石塗層是一(yī)種非晶態碳塗層,具(jù)有類(lèi)似金剛石的四麵(miàn)體鍵合結構(sp³ 鍵),因此兼(jiān)具高(gāo)硬度、低摩擦(cā)係數、耐磨(mó)損、耐腐蝕及良好的熱導(dǎo)性等特性。其性能介於類金剛石塗層(DLC和傳統(tǒng)硬質塗層之間,屬於類金剛石(shí)塗層(DLC)的一種特殊類型,常用於對表麵性能要求極高的精密零部件、工具及電子器件等領域(yù)。

二、主要特點

特性

具體表現

高硬度

硬(yìng)度可達 2000-4000 HV(接近天然金剛石的硬度),顯著提升基材抗磨損能力。

低(dī)摩擦係數

摩擦係(xì)數通常為 0.05-0.2,可減少摩擦損耗,降低能耗,延長部件使用(yòng)壽命。

耐(nài)腐(fǔ)蝕性

對酸、堿、鹽等化(huà)學介質具有(yǒu)良好抗性,適用於潮(cháo)濕、腐(fǔ)蝕性環境。

熱穩定性

相比普通 DLC 塗層,TAC 塗層耐高溫(wēn)性能更優(可耐受 200-400℃高溫),不易因溫(wēn)度升(shēng)高而失效。

高(gāo)表麵光潔度

塗層(céng)厚度均勻(通(tōng)常 0.5-5μm),表麵粗糙度低(Ra≤0.2μm),可保持(chí)零件精密配合精度。

良好附著力

與金屬(如鋼、鈦合金)、陶瓷、半導體等基材結合力強,不易剝落。

三、製備工藝

TAC 塗層主要通過物理氣相沉積技(jì)術製備,常(cháng)見工藝包(bāo)括:

離子束沉積(jī)

利用高能離子束將碳源(如石墨靶材)分解為離子,直接沉積在基材表麵,形成高 sp³ 鍵含(hán)量的 TAC 塗層。

優點:塗層致密度高、結構均勻,性能接近天然(rán)金剛石。

缺點(diǎn):沉積速率低,成本較高(gāo),適(shì)合小尺寸精密零件。

 

脈衝激光沉積

通過激(jī)光轟擊石墨靶材,產生等離子體並沉積到基材表麵,形成 TAC 塗層。

優點:可精(jīng)確控製塗層(céng)成分和厚度(dù),適合複(fù)雜曲麵沉積。

缺點:設備(bèi)複雜,大規模生產難度大。

DLC塗層

磁控濺射沉(chén)積

利(lì)用磁控濺射技術將碳靶材濺射至基材表麵,通過調節工藝(yì)參(cān)數(如功率、氣壓)控(kòng)製 sp³ 鍵比例。

優點:沉積效率高,適合批量生產。

缺點:塗層(céng) sp³ 鍵含量相對較低,硬度略低於 IBD 法製備的 TAC 塗層。

 

四、應用領域

TAC 塗層憑借其獨特(tè)性能,廣泛應用(yòng)於以下領域:

機械加工工具

應用場景:銑刀、鑽頭、齒輪刀具等。

作用:減少刀(dāo)具(jù)磨損,提高加工(gōng)效(xiào)率,延長刀具壽命(可提升 3-5 倍(bèi)),尤其適合高硬度材料(如淬火鋼、鈦合金)加工。

 

汽車(chē)與航空航天

應用場景:發動機活塞環、氣門挺杆、渦輪葉片、軸承等。

作用:降(jiàng)低摩擦損耗,提升部件耐腐蝕性和(hé)可靠性,適用於高溫、高負荷工況(kuàng)。

 

電子與半導體

應用場景:硬盤磁頭、MEMS 器件、半導體封裝模具等(děng)。

作用:保(bǎo)護精密電子元件表麵,減少接觸電阻,提升器件穩定性和使用(yòng)壽命(mìng)。

 

醫療器械

應用場景:手術刀具、人工關節、牙科種植體等。

作用:增強表麵生物相容性,減少細菌附著,同時提高耐磨性和(hé)抗腐蝕能力。

 

光學器件

應(yīng)用場景:紅外窗口、光學透鏡、傳感器表麵等。

作用:提供高透光率(lǜ)、低反射率的耐磨塗層,保護光學元件表麵免受刮擦和汙(wū)染。

 

六、注(zhù)意事項

基材(cái)預處理

塗層附著力依賴(lài)於基材表(biǎo)麵清(qīng)潔度和粗糙度,需通過噴砂、超聲清洗等工藝去除油汙和(hé)氧化層。

塗層厚度選擇

需根據零件服役條件調整厚度:磨損嚴重場景(jǐng)(如刀具)可選(xuǎn) 2-5μm;精密配合件(如軸承)宜(yí)選 0.5-1μm,避免影響公差配合。

後處理工藝

部分應(yīng)用(yòng)場景需對(duì)塗層進行拋(pāo)光或(huò)鈍化處理,以進一步降低表麵粗糙(cāo)度或提升耐腐(fǔ)蝕(shí)性。

成本考量

TAC 塗層製備設備投資大,工藝複(fù)雜,成本高於普通DLC塗層,適用於對性能要求極高的高端領域。

【責(zé)任編輯】小編

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