自1980年以來，類金剛石塗層作為新型鍍膜技術一直廣受歡（huān）迎（yíng），而我國在這方麵也（yě）取得了一些（xiē）進展，但與發達國家相比仍然還（hái）有差距。

類金剛石塗（tú）層（céng）目前有很多種類，一般類金剛石塗層分為氫化類金剛石碳膜(a-C：H)和（hé）無氫類金（jīn）剛石碳膜(a-C)兩大類，由（yóu）於其結構（gòu）工藝機理極為（wéi）複雜，目前DLC塗層在高溫下會出現穩定性問題，比如在超（chāo）過400度後（hòu）DLC塗層會存（cún）在很大（dà）的內應力，也會降低其結合力，會是的DLC膜層出現起皺，脫落。

但是這也阻擋不了DLC塗層由於特（tè）殊的結構，兼備鑽石性能，所以它同時（shí）也擁有很（hěn）多優異的性能，比（bǐ）如DLC塗層的抗磨性、化學惰性、沉積（jī）溫度低、膜麵光滑，可（kě）以將其作為一些電子產品的保護膜。

類金剛石DLC在電子行業的應用

如噴墨打印機墨盒加熱層上、磁存（cún）儲器的表麵、電器中的音膜、半導體行業的電路板加一層類金剛石膜 DLC 保護層、不僅能有效的減（jiǎn）少機械（xiè）損傷，又不影響數據存（cún）儲。

類金剛石（shí）膜（mó）具有電阻率高、絕緣性強、化學惰性高和低電子親和力等性能。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的（de）掩膜，不僅（jǐn）可以避免操作過程中的機械損傷（shāng），還可以在（zài）去除薄（báo）膜表麵的汙染物允許用較激烈的機械或化學腐蝕方法，且且同時不會破壞（huài）薄膜的表麵。

采用類金剛石膜和碳（tàn）膜交替出現的多層膜結構構造成的多量子阱結構，具有共振隧道（dào）效應的和獨特的電特性，在微電子領（lǐng）域有（yǒu）著潛在的應用（yòng）前景。類金剛石（shí）膜具（jù）有良好的表麵平麵光（guāng）滑度，電子發射均勻性好，即使在較低的外電場作用下，也可產生（shēng）較大的發生電流，這個性能在平板顯示器中有著特殊的使用價值。