DLC塗層就是類金剛石（shí）塗層，具有高硬度、耐磨損、低摩擦係數、良好的化學穩定性及高透光率等優異性能，得到廣泛應（yīng）用。DLC塗層按照成分可以分（fèn）為含氫DLC塗層和無氫DLC塗（tú）層，含（hán）氫DLC塗層主要采用（yòng）化學氣相（xiàng）沉積（CVD）方法沉積（jī），含有大量飽和sp3鍵的氫元素，使用過（guò）程中經常由於氫逸（yì）出導致性能退化。而無氫DLC塗層（céng）中sp3鍵全部由碳原子組成，結構上更加穩（wěn）定可（kě）靠，使用效果更好。那麽，常（cháng）用無氫DLC塗層製備方法有哪（nǎ）些呢？如果想獲（huò）得較厚的膜層，該使用怎樣的方法製備呢？下麵，納隆小（xiǎo）編為大（dà）家解析一下上述問題吧（ba）。

一、常用的無氫DLC塗層沉積（jī）製備方法分類 

1、電弧離子（zǐ）鍍（dù）

　電弧離（lí）子鍍是1964年首先公開了所發明的技術。它是在蒸發鍍膜的同時，用（yòng）來源於等離子體的離子轟擊膜（mó）層。在上世紀70年代諸多電弧離子鍍技術相繼實用化，主要用於製備刀具塗層。
　　電弧離子鍍技術屬於冷場致弧（hú）光放電，製備過程如下：
　　工件經清洗入爐（lú）後抽真空。當真空度達到6X10 -3 Pa後（hòu），開啟烘烤加熱電源，對工件進行加熱（rè）。達到一定溫度後，通入氨氣，真空度降至（3～5）×10-1Pa。接通工件偏壓電源，電壓調至100~200V。此時產生輝光放電，從陰極弧源表（biǎo）麵發射出碳原子和石墨原子（zǐ）。在工件負偏壓的作用下，沉積到工件形成（chéng）DLC底層，以提高類金剛石塗層的附著力（lì）。

2、離子輔助沉積

　　離子輔助沉積技術英文縮寫IAD，是一（yī）種真空蒸發為基礎的輔（fǔ）助沉積方法。是借助少量高（gāo）能離子及大量高能中子的連續作用，將金屬或（huò）金屬化合物（wù）蒸氣沉積在工件的一種表麵處理過程。
　　真空蒸發鍍膜過程中沉積的原子或者分子在基體（tǐ）表麵的有限遷移率形成柱狀的薄膜結構，所以在沉積的過程中對生長的薄膜利用離子源轟擊（jī），將離子的動量傳給沉積的原子或（huò）分子，使沉（chén）積的分子或者原子的遷移率得到（dào）提高，從而抑（yì）製了柱狀（zhuàng）結構的生長，使得光學介質薄膜的密度增（zēng）加，光學性（xìng）能進一（yī）步提高。

3、濺射沉積

　　濺射沉積是用高能粒子轟擊靶材表麵，通過粒（lì）子動量傳（chuán）遞打出靶材中的原子及其他粒子，使靶材中的原（yuán）子濺射出來（lái），沉（chén）積在基底表麵形成薄膜（mó）的方法。
　　濺射沉積技術具有（yǒu）可實現大麵（miàn）積快速沉積，無氫DLC薄（báo）膜（mó）與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重複性好等優點，且任何物質都可以進行濺射（shè），因而近年來發（fā）展（zhǎn）迅速，應用廣泛。

二、含氫DLC塗層製備辦法還有一種叫物理氣相（xiàng）堆積(PVD)。

物理氣相堆積製備DLC薄膜，通過高溫蒸騰（téng），氣體離子濺射石墨靶材，使碳以離子或原子的方式堆積於基體上成膜（mó），這種薄膜（mó）外（wài）表粗糙，結合力差，工業應用效果不明顯（xiǎn）。離子束堆積（jī）(IBD)、磁控濺射、陰極電（diàn）弧技能和脈衝激光堆積(PLD)等，均能夠製備外表細密潤滑、內應力小、附著力強、摩擦係數較小的類金剛石塗層。

       東（dōng）莞（wǎn）市（shì）納隆精密五金有限公（gōng）司坐（zuò）落於世界工廠東（dōng）莞酷賽科技園，是一家PVD真空鍍膜的生產，研發，集銷售為一體的高新科技生（shēng）產型企業（yè），公司自主研發產品有低溫PVD物理的氣相沉積塗層技術，沉積（jī）時工作溫度60°-300°具有更高更好結合力，耐（nài）磨性、均勻性（xìng）的薄膜沉積於工件表麵，以滿足（zú）人們對材料表麵綜合（hé）性能的（de）更高要求。例如：DLC,WCC,TIN,TICN,TIC,CRN,ALCRN,TIALCRN等等（děng）各類單層及複合納米塗層，尤其是本公（gōng）司生產的類金剛石（shí）DLC塗層（céng）1um-6um早已得到了（le）大麵積的運用。